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人造水晶
于1977年在東京的無(wú)線電波,共建實(shí)訓(xùn)工廠的人工晶體,允許極少數(shù)成功開發(fā)人工晶體制造高壓反應(yīng)器的晶體缺陷(鉑)的專利技術(shù)于1994年大規(guī)模生產(chǎn)開發(fā)高品質(zhì)的晶體做到了。這是用在廣泛的應(yīng)用,為結(jié)晶晶體的各種產(chǎn)品中使用的材料。
關(guān)于人工晶體
人工晶體的歷史
歷史的人工晶體在意大利長(zhǎng)大人工晶體的水熱合成法,在1905年開始在喬治拉斯佩齊亞培訓(xùn),研究開始于1953年在日本山梨大學(xué)。加入到改進(jìn)的生長(zhǎng)爐的高溫和高壓,所謂的高壓釜中,訓(xùn)練技術(shù)得到改善,那么,人工晶體工業(yè)化單位7公斤生長(zhǎng)爐產(chǎn)量開始于1959年。
然后,大批量生產(chǎn)的人工晶體的質(zhì)量和天然水晶相同的水平可能技術(shù)的進(jìn)步,促進(jìn)將高壓釜的尺寸增加,在1973年3 1米和一個(gè)全規(guī)模大規(guī)模生產(chǎn)的高壓釜用體積比出現(xiàn)實(shí)現(xiàn)了。內(nèi)部容積為4m 3高壓釜超過(guò),每單位生產(chǎn)量也有兩噸(2000千克)或更多。
人工晶體的特點(diǎn)
| 一般性質(zhì) | |
|---|---|
| 硬度 | 莫氏硬度7 |
| 比重 | 2.65×103千克/米3 |
| 折射率 |
(對(duì)于波長(zhǎng)589.3nm) 和1.5443(普通射線) 1.5534(射線非凡) |
| 晶系 | 三方晶系 |
| 化學(xué)成分 | SIO2 |
| 介電常數(shù) | 4.5 |
| 轉(zhuǎn)變溫度 | 573℃ |
| 可溶性 | 溶解在氟化合物 |
和人造水晶的發(fā)展
人工晶體的方法稱為使用(晶體熔化許多高溫度)的晶體在堿性溶液中的溶解度是不同的取決于溫度,氣氛的高溫和高壓力,在所謂的水熱合成方法,以促進(jìn)生長(zhǎng)。
稱為高壓釜中的生長(zhǎng)爐內(nèi)壓力容器,其中鈉2 CO 3的晶體生長(zhǎng)在超臨界狀態(tài)下,通過(guò)填充堿性的NaOH溶液,加熱,等等。人工晶體的生長(zhǎng)受原料被溶解在高溫度和高壓力移動(dòng)從底部到頂部溶液對(duì)流和維持在高壓釜的頂部較低的溫度比底部,被沉積晶種。根據(jù)不同的應(yīng)用,將大小調(diào)整的生長(zhǎng)條件下,具有不同特性的形狀和大小的晶種,人工晶體的取向?qū)⑴嘤?xùn)。人工晶體生長(zhǎng)足夠的管理下,具有均勻質(zhì)量的形狀和尺寸來(lái)控制。
晶種
籽晶的取向是由石英晶振制造的經(jīng)濟(jì)效果。從生長(zhǎng)在晶種切割和R Z切塊,與厚度切變振動(dòng),這是用于高頻帶的人工晶體,所制造的中間頻帶的振動(dòng)換能器的輪廓。
已被用于X軸旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的晶種的晶體振蕩器使用低頻帶的彎曲振動(dòng)和伸縮振動(dòng)。
這也給了一個(gè)顯著的晶體質(zhì)量的影響可能是薄薄的一層稱為生長(zhǎng)的晶體的晶種的表面上形成由異物的種子面紗。
人工晶體質(zhì)量評(píng)價(jià)
金額在人工晶體的雜質(zhì)和缺陷,影響增長(zhǎng)率,添加劑和原料。的生長(zhǎng)速率的紅外吸光系數(shù),特別是:的人工晶體的頻率溫度特性(α,存在與Q值)的影響的重要特性。(Q值降低)和α提高生長(zhǎng)速度快,我會(huì)引起的頻率 - 溫度特性的變化。
這是石英晶體振蕩器的Q值,5泛音5MHz的振蕩器晶體片,人工晶體質(zhì)量指示符的早期,人工的Q值換能器及其制造保留的條款和條件的變化,由于不易受它被用來(lái)更準(zhǔn)確地反映晶體本身的內(nèi)部損耗。然而,晶體片直徑較大的有必要在該方法中,它不能從Z區(qū)域振動(dòng)器還。測(cè)量的Q值的Q值的估算通過(guò)測(cè)量紅外吸收系數(shù)α由振動(dòng)器的制造方法,采用目前需要很多時(shí)間和精力。具有這種方式的優(yōu)點(diǎn)在于,可以很容易地測(cè)量,可??以檢測(cè)到任何變化,由于小區(qū)域的生長(zhǎng)是可能的。
這種晶體是適合使用的,如高品質(zhì)的振蕩器的高頻帶中人工晶體的估計(jì)Q值C級(jí)或以上,所以顯示了等效的頻率 - 溫度特性和高品質(zhì)的天然水晶。α是非常小的,從生產(chǎn)特定的具體的變化在相同的特定的條件下生長(zhǎng)工序中提取樣品進(jìn)行評(píng)價(jià)時(shí),選擇晶體在特定的最大的Z尺寸管理你。究其原因,α成比例地增加,生長(zhǎng)速率,最大結(jié)晶,因?yàn)槭境觯≦最低值)的最大α值,在同一批次中的Z尺寸。
標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格
| 品種 | 產(chǎn)品名稱 | 尺寸 |
的蝕刻 通道 密度品位 |
∂3585 最大值 |
異物密度 品位 |
取向 (θ) |
||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| X | ? | Ÿ | ||||||
| ±0.2 | ±0.2 | ±5 | ||||||
| ?板 | PB-18 | 9 | 18.0 | 200 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' |
| PB-19 | 9.5 | 19.0 | 200 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' | |
| PB-20 | 10.5 | 20.0 | 200 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' | |
| PB-23 | 23.5 | 18.0 | 185 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' | |
| PB-31 | 31.0 | 18.0 | 185 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' | |
| PB-38 | 65.0 | 38.0 | 185 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' | |
| PB-41 | 65.0 | 41.0 | 185 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' | |
| SB-02 | 53.0 | 46.??0 | 200 | 一 | 0.050 | II? | 0°00' | |
| SB-03 | 76.0 | 65.0 | 220 | 一 | 0.069 | II? | 0°00' | |
| SB-04 | 100.0 | 85.0 | 240 | 一 | 0.069 | II? | 0°00' | |
| 粒徑(μm)→ | 每個(gè)年級(jí)的異物密度 | |||
|---|---|---|---|---|
| 級(jí)↓ | 10-30 | 30-70 | 70-100 | 100多名 |
| 我一個(gè) | 二 | 一 | 0 | 0 |
| I B | 三 | 二 | 一 | 一 |
| 我 | 六 | 四 | 二 | 二 |
| 二 | 九 | 五 | 四 | 三 |
| 三 | 十二 | 八 | 六 | 四 |
紅外吸收系數(shù)α
紅外吸收系數(shù)α級(jí)以下類別:JIS C 6704和IEC758。
| 級(jí)↓ | 每個(gè)年級(jí)的最大價(jià)值 | 估計(jì)Q值(參考號(hào)) |
|---|---|---|
| α3585 | (X104) | |
| AA | 0.015 | 380 |
| 一 | 0.024 | 300 |
| 乙 | 0.050 | 240 |
| Ç | 0.069 | 180 |
| ð | 0.100 | 140 |
| ê | 0.160 | 百 |
蝕刻通道密度
蝕刻通道密度,在下列幾類:一個(gè)檔次的JIS C 6704和IEC758。
| 級(jí) | 通道數(shù)(書/厘米2) |
|---|---|
| 1AA | 二 |
| 1A | 五 |
| 一 | 十 |
| 二 | 三十 |
| 三 | 百 |
| 四 | 300 |
本公司的種子質(zhì)量可以保證蝕刻通道密度2級(jí)的所有品種。
此外,在支持1級(jí)也可以選擇你的客戶購(gòu)買規(guī)格。
籽晶的取向,尺寸和位置
籽晶的取向?yàn)?°00'±15'。此外,大小的Z軸方向和1.5mm±0.5mm時(shí),晶種包括在圖中所示的陰影部分的面積。(如果它主要是在Z軸方向上的大小,寬度為3mm或更小)
| 蘭伯特人工晶體標(biāo)準(zhǔn) | |
| 角 | |
| Z平面的X軸旋轉(zhuǎn)角度: | 0°00'±30' |
| Y軸旋轉(zhuǎn)角度的X戰(zhàn)警: | 0°00'±15' |
| Z軸旋轉(zhuǎn)角度的X戰(zhàn)警: | 0°00'±15' |
| 尺寸公差為±0.1mm在X·Z軸方向 | |
| 12.5微米十點(diǎn)平均粗糙度表面粗糙度(#80鉆石) | |
人工晶體的典型
人工晶體SAW器件(4英寸)
表面聲波元件是使用波沿表面振動(dòng)能量集中在壓電基片的表面上的。
小振蕩器,濾波器人工晶體
它用于高可靠性小型晶體振蕩器全密封的密封形式,和過(guò)濾器。
對(duì)于一般的使用人造水晶
它是用在汽車發(fā)動(dòng)機(jī)控制處理器·數(shù)控機(jī)床和機(jī)器人互動(dòng)電視,傳真,等回家和國(guó)外,在其他領(lǐng)域。

| 小振蕩器,濾波器珠寶玉石質(zhì)量 | |
| SAW器件珠寶玉石質(zhì)量 | |
| 外國(guó)材料等級(jí) | II或更高 |
| 紅外吸收系數(shù) | C或更高 |
| 蝕刻通道 | 30 /厘米2 |
空白標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范
| 概述 | 的厚度 | 表面光潔度 | 主要面 | 取向平 | 輪廓 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
公差 ±0.05 |
公差 ±0.05 |
角度公差 |
尺寸 公差(H) |
角度公差 | 完 | ||
| 圓板 | Φ6.0 | 0.15至 | 我·II | ±15“ | ±0.2 | ±15' | #400 |
| Φ8.0 | 0.15至 | 我·II | ±15“ | ±0.2 | ±15' | #400 | |
| Φ8.7 | 0.20至 | 我·II | ±15“ | ±0.2 | ±15' | #400 | |
| Φ79.0 | 0.50 | I·II·III | '±1' | ±0.5 | ±15' | #400 | |
| Φ102.0 | 0.50 | I·II·III | '±1' | ±0.5 | ±15' | #400 | |
| 角 | 9×9 | 0.15至 | 我·II | ±15“ | - | - | 第240 |
| 10×10 | 0.15至 | 我·II | ±15“ | - | - | 第240 | |
| 12×12 | 0.15至 | 我·II | ±15“ | - | - | 第240 | |
| 80×80 | 0.50 | 我·II | '±1' | - | - | 第240 | |
| 102×102 | 0.50 | 我·II | '±1' | - | - | 第240 | |
表面光潔度
(I):#1000(II):#2000(三):拋光
厚度頻率也可以完成。
方向平面尺寸公差h的尺寸高度方向。
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